iPhone 16 Pro詳細(xì)配置曝光！相機(jī)等配置將再被優(yōu)化

　　外媒最近整理了iPhone 16 Pro的詳細(xì)配置的爆料信息，表示iPhone 16 Pro和iPhone 16 Pro Max今年將會(huì)有30處改進(jìn)和優(yōu)化。

　　除了詳細(xì)的配置信息的對(duì)比，還有爆料稱，蘋果正測(cè)試新的抗反射光學(xué)涂層技術(shù)，可以減少鏡頭炫光和鬼影等偽影，從而提高照片質(zhì)量。

　　爆料人“yeux1122”最近在Naver博客上爆料稱，他從蘋果供應(yīng)鏈處獲悉，蘋果目前在測(cè)試新的抗反射光學(xué)涂層技術(shù)。供應(yīng)鏈消息稱蘋果正在考慮在iPhone相機(jī)鏡頭制造工藝中，引入新的原子層沉積（ALD）設(shè)備。

　　根據(jù)介紹，原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種基于連續(xù)使用氣相化學(xué)過程的薄膜沉積技術(shù)，將物質(zhì)以單原子膜形式逐層鍍?cè)谝r底表面的方法。ALD是一種真正的納米技術(shù)，以精確控制方式實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的超薄薄膜沉積。

　　具體到鏡頭方面：ALD工藝主要用來噴涂抗反射涂層，這有助于減少攝影偽影。例如當(dāng)太陽等強(qiáng)光源直接照射鏡頭時(shí)，最終拍攝的圖像中可能出現(xiàn)條紋和光暈，而ALD可以減少這些圖像失真現(xiàn)象。此外，ALD應(yīng)用材料可以防止環(huán)境對(duì)相機(jī)鏡頭系統(tǒng)造成損害，同時(shí)又不會(huì)影響傳感器有效捕捉光線的能力。